Tantalsprutmål med høy renhet

Tantalsprutmål med høy renhet

Materiale: ren tantal og legering
Kjemisk sammensetning: Ta (99,95 %min). NB. W. Fe
Produktnavn: Pure tantal target tantal sputtering target til en gunstig pris
Materiale: ren tantal og legering
Sende bookingforespørsel
Beskrivelse
Tekniske parametere
Tantalsprutmål med høy renhet kan tilpasses i henhold til dine krav

 

Spesifikasjoner
Materiale: R05200
Renhet: Større enn eller lik 99,95 %, Større enn eller lik 99,99 %
Størrelse: Tilpasset
Standard: ASTM B708-2012
Bruksområde: Brukes til sputtering avsetningsbelegg av optisk fiber, halvlederskiver og integrerte kretser. Brukes til glass, keramikk, LCD-belegg. Brukes til katodeforstøvningsbelegg, høyvakuumadsorpsjon av aktive materialer, etc.

 

Spesifikasjoner for Tantalmål

 

punkt

God pris ren ta mål tantal sputtering mål

Materiale

ren tantal og legering

Tetthet

16,6 G/cm3

Flate

polert, lyst, rullende

Form

rund skive, liten skive, stor skive

MOQ

1 stk

Søknad

Industriell, elektronisk, medisinsk

 

Vår tjeneste

 

1. Profesjonell produsent--15 års erfaring

2. Streng kvalitetskontroll - SGS inspeksjon

3. Høy forsyningskapasitet--3000MT/måned

4. Rask levering - innen 15 dager

 

Kundebesøk og bedriftsmiljø

 

High Purity ta Sputtering Target  supplier

High Purity Tantalum Sputtering Target  supplier

Zhenan er et selskap med 200+ ansatte og et fabrikkareal på 30,000+ kvadratmeter. Vi har 30+ års erfaring innen metallproduksjon og -produksjon. Velkommen til å kontakte oss for å kjøpe produkter.

Populære tags: høy renhet tantal sputtering mål, Kina høy renhet tantal sputtering mål produsenter, leverandører, fabrikk