Forberedelse av tantalmål ved pulvermetallurgi

Apr 23, 2025

Legg igjen en beskjed

Tantalumpulver med høy renhet (større enn eller lik 99,95%) dannes ved kald isostatisk pressing og deretter sintret ved høy temperatur (1800-2000 grad) for å danne et målblank.
Fordeler: lave kostnader, egnet for store mål.
Ulemper: Lav tetthet (ca. 95%), som krever etterfølgende behandling.

Tantal Target Produktdetaljer Picture Display

ta metal sputtering target company
Tantal -mål
pure Tantalum target company
Tantal -mål