Optisk belegg
Bruk:Niobium målbrukes til å deponere NB-filmer med høy refleksjon (f.eks. Refleksjonsevne> 95% ved 45 graders hendelsesvinkel) hos lasere og infrarøde detektorer.
Prosessparametere: AR Gas Sputteringtrykk 0. 5 Pa, Strømstetthet 3 W/cm², avsetningshastighet ca. 10 nm/min.
Elektronisk emballasje
Bruk: Form et sammensatt mål med kobber for å fremstille et emballasjesubstrat med høy termisk ledningsevne og lav termisk ekspansjonskoeffisient.
Typisk struktur: Cu/NB/Cu flerlags sammensatt mål, termisk ledningsevne> 200 W/(M · K).
Høy renhet niobium mål produktdetaljer Bildevisning

Niobiummål med høy renhet

Høy renhet Niobium målmetall









